關于SPUTTER系列

OWLS-1800是專用(yong)于(yu)(yu)“半導(dao)體光學器(qi)件”的(de)(de)金屬模式(shi)濺射系統，適用(yong)于(yu)(yu)12英(ying)寸的(de)(de)晶圓。該濺射系統可以擴(kuo)展(zhan)應用(yong)范(fan)圍（同時雙倍尺寸鍍膜，低溫鍍膜等）

特征
適用于多(duo)種晶(jing)圓尺(chi)寸（12“，10”，8“，6”和4“）
真(zhen)空晶圓搬運機械手(shou)快速(su)清潔的轉移(yi)系(xi)統
3個雙旋轉圓柱陰(yin)極(ji)
高反(fan)應性(xing)等離子體源(yuan)實現低吸(xi)收膜
其他模塊，例如光(guang)學(xue)厚度監控儀（可選）
適用于EFEM并符合(he)SEMI標準(zhun)
規格
真空(kong)腔體 裝片室：寬820mm×高1455 mm×深740 mm
運送室：寬1070×高480×深1070mm
工藝室：寬2540×高745×深2285mm
基板(ban)夾(jia)具(ju) 10片（最大12英(ying)寸）
基板旋轉滾筒系統(tong) 直徑1800 mm×高48 mm, 滾(gun)筒式, 10 rpm-100 rpm（可調(diao)）
反應源 ICP（電感耦合等離(li)子體）
濺射(she)源 雙(shuang)旋轉(zhuan)陰極（可選平面靶(ba)材(cai)）
真空系統(tong) 粗抽泵(beng)，分(fen)子泵(beng)，冷阱
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室，運送室：5分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3??Pa)
工作條件
設(she)備尺寸 6500 mm (寬) × 6000 mm (深(shen))×3400 mm (高)
電源 3相+G, 380V±5％、125kVA、50/60Hz
水流量 ≥195升/分鐘
空氣(qi)壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重量 約13500 kg