關于SPUTTER系列

NSC-2350是用于光學薄(bo)膜(mo)的金屬式(shi)濺射(she)設備，尤其適(shi)用于大面積基板的系統。 可(ke)用于移動終端設備、汽車等(deng)大面積面板的AR+AS膜(mo)。

特征
鍍膜面積：高(gao)1100mm×寬450 mm
6個陰極靶
用可選組件更換陰極(ji)
高反應性等離子體源實現(xian)低吸收膜
自動上下片(pian)基板(ban)搬(ban)送系統(tong)
通過優化(hua)沉積(ji)和搬(ban)送系(xi)統實現低顆粒薄膜(mo)
一個程序可鍍AR/AS膜
規格
真空(kong)腔體 裝片室：304不銹鋼，寬700mm×高1860 mm×深1760 mm
卸片室: 寬700×高1860×深1760mm
運送室: 寬660×高1860×深1760mm
工藝室：304不銹鋼，直徑2350 mm×高1950 mm
基板夾具(ju) 可(ke)選(xuan)15– 22片
基板旋轉滾筒系統(tong) 直徑2245 mm, 滾(gun)筒式(shi), 10rpm-50 rpm（可調）
反應源 ICP（電感耦合等(deng)離子體(ti)）
濺射源 雙(shuang)旋轉(zhuan)陰極（可選平面靶材(cai)）
真空系統 粗抽泵(beng)，分子泵(beng)，冷阱
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤2.0 × 10-4?Pa
抽(chou)氣(qi)速率 裝片室：≤8 分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到9.0×10-4?Pa)
工作條件
設備尺寸 7000 mm (寬) × 6600 mm (深)×4000 mm (高)
電源(yuan) 3相+G, 380V±5％、300kVA、50/60Hz
水流量 ≥400升/分鐘(水壓(ya)：0.6-0.7 Mpa)
壓(ya)縮空(kong)氣 0.5 MPa - 0.7 MPa
總(zong)重(zhong)重(zhong) 約30000 kg