離子源

OIS-GL

OIS-GL是一(yi)種用于(yu)基板清洗(xi)和離(li)(li)子輔助(zhu)而開(kai)發的(de)低(di)電壓大電流無柵網式離(li)(li)子源。 配備于(yu)Gener-1300及OTFC系列鍍(du)膜(mo)機(ji)，可(ke)生(sheng)產各種光學濾光片。

特征
適用(yong)于基板(ban)清(qing)洗或塑料(liao)基板(ban)的鍍膜(mo)
低能量、高電流，照射面積(ji)可達到φ 1200mm 以上
設計的冷卻方式，大大提高了穩定性
規格
型號 OIS-GL
尺寸 φ163mm × 200mm (H)
放電電壓(ya) 50V - 300V
放電電流(max) 8A
氣體(ti)流量(liang) 5sccm - 50sccm（氬氣）10sccm - 100sccm（氬氣）
使(shi)用壓力 3.5 × 10-2 Pa 以下(xia)
水冷方式 Anode and beam unit
中和器 Tungsten (W) filament