關于SPUTTER系列

NSC-15型設(she)備是可用于(yu)批量生產光(guang)學薄膜的濺(jian)射(she)鍍膜機，采用金屬模(mo)式濺(jian)射(she)技術并(bing)搭載高(gao)反應性等離子體源。 另配備了上下片(pian)搬(ban)送(song)系統，可實現高(gao)產量的生產。

特征
可(ke)裝載4種靶材
陰(yin)極可替換為其它部(bu)件
雙旋轉(zhuan)滾(gun)筒(tong)陰極可穩定(ding)放(fang)電
高反(fan)應(ying)等離子體(ti)源(yuan)用于低吸收膜(mo)
自(zi)動上下(xia)片(pian)基板搬送系統
規格
真空腔體 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm
基板夾具 可選13 – 22片
旋轉滾筒系統： 直徑1500 mm, 滾(gun)筒式(shi), 10 rpm - 100 rpm
反應源 ICP（電感耦(ou)合等離(li)子體）
濺射源 雙旋轉陰極（可選平面靶(ba)材）
真空系統 粗抽泵，分子泵
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速(su)率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板加熱溫度(du) 可選150℃
工作條件
設備尺(chi)寸 5800 mm (寬) × 7700 mm (深(shen))×3200 mm (高)
電(dian)源 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz
水流(liu)量(liang) ≥180升(sheng)/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重(zhong)量 約13000 kg