關于SPUTTER系列

NSC-15型設備(bei)(bei)是可用(yong)于批量(liang)生產(chan)光(guang)學薄膜(mo)的(de)濺射鍍(du)膜(mo)機(ji)，采用(yong)金屬模(mo)式濺射技術并搭載高(gao)反應(ying)性等離子體源。 另(ling)配(pei)備(bei)(bei)了上下片搬送系統，可實(shi)現高(gao)產(chan)量(liang)的(de)生產(chan)。

特征
可裝載4種靶材
陰極可替換為其它部件
雙旋轉(zhuan)滾筒陰極可穩定放電(dian)
高反(fan)應等離子體(ti)源(yuan)用于(yu)低吸收(shou)膜
自(zi)動(dong)上下片基板搬送系統(tong)
規格
真空腔(qiang)體 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm
基(ji)板夾具 可選13 – 22片
旋轉滾筒系(xi)統(tong)： 直(zhi)徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm
反應源 ICP（電感耦合等離(li)子體）
濺射源(yuan) 雙旋轉陰極（可選平(ping)面靶材）
真空(kong)系統 粗抽(chou)泵，分(fen)子(zi)泵
性能
極限(xian)壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽(chou)氣速率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板加熱溫度 可(ke)選(xuan)150℃
工作條件
設備尺寸 5800 mm (寬) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)
電源(yuan) 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz
水流量 ≥180升/分鐘
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約(yue)13000 kg