關于RPD系列
RPD-1000 (ITO/AlN)
RPD系(xi)列(lie)是高性(xing)能LED膜(mo)（ITO/AlN）低成(cheng)本生產可能的反應性(xing)等(deng)離子源鍍(du)膜(mo)機。
- 特征
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通過反應性等離子源同時實現(xian)成膜材(cai)料的蒸(zheng)發及活性化
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通過能量鍍制高品(pin)質的結晶膜
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與常規蒸鍍相(xiang)較，實現低溫、低成本量(liang)產
- 規格
- 真空(kong)室 Ф1000mm×H 1165mm
- 基板架(jia) Ф870 mm
- 基板架(jia)轉速 10～30rpm
- 晶振式膜厚計 6點式(shi)水晶傳(chuan)感器
- 蒸發源 反應(ying)性等離子源
- 性能
- 達到壓力 1.0E-4 Pa 以下
- 排(pai)氣時間 20分以(yi)下（大氣壓(ya)～1.3×10-3 Pa以(yi)下）
- 工作條件
- 設備尺(chi)寸 約4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
- 電源(yuan) 3相＋G,200V±5%, 約75KVA
- 水流量 80升(sheng)/分以上
- 空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
- 重量(liang) 約4000 kg
