關于Gener系列
Gener-1300
本(ben)裝置是為減(jian)反(fan)射光學薄膜的(de)大(da)批量生產而設(she)計制作的(de)光學鍍膜機。
- 特征
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采用了磁流體密封(feng)技術的中心旋轉式基板(ban)架，保證了薄膜產品的重(zhong)復(fu)性與均勻性
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優化(hua)的排氣特性(xing)和(he)升(sheng)溫能力使鍍膜時間縮短
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可(ke)以(yi)加裝用(yong)于對應(ying)高精度AR鍍膜的多(duo)層膜用(yong)可(ke)靠的光控(kong)儀 (optional)
- 規格
- 真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
- 基板架 4片式工(gong)作架（或(huo)Ф1200 mm）
- 基板架轉(zhuan)速(su) 最大30rpm(可調)
- 晶振(zhen)式膜(mo)厚計 XTC/3+6點式(shi)水晶傳感器
- 蒸(zheng)發源 電子槍1臺
- 性能
- 極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
- 抽氣速度(du) 10分（大氣(qi)壓～3.0×10-3Pa）
- 基板最高加熱溫度 最高350℃
- 工作條件
- 安裝空間(jian) 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
- 電力 3相，200V，50/60Hz，約(yue)80KVA
- 水(shui)流量 100升/分(fen)以上
- 壓縮空氣(qi)壓力 0.5-0.7MPa
- 重量 約5000kg
