關于OTFC系列
OTFC-900
OTFC系(xi)列是用于生產紅外截(jie)止濾(lv)光片(pian)、分色濾(lv)光片(pian)等成膜的真空鍍膜裝置。
- 特征
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真空室(shi)尺寸：Φ600-1800mm
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60點/80點式光學膜厚(hou)監控(kong)
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使用(yong)均(jun)勻(yun)分布的高離子電流密度的離子源
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搭載雙電子槍，多點和環(huan)型坩(gan)堝可鍍100層以上(shang)
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利用自動蒸(zheng)鍍控制(zhi)系統實(shi)現全自動蒸(zheng)鍍過程
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工件架可選擇鐘罩式或行星式
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排氣系統(tong)可(ke)選擇擴散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵
- 規格
- 設備名(ming)稱 OTFC-900CBI/DBI
- 真空室 SUS304, φ900mm×1300mm (H)
- 工件(jian)架 φ 790mm
- 工件架(jia)轉(zhuan)速 10 rpm to 30 rpm (可變)
- 光(guang)學(xue)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學膜(mo)厚監控儀波長范圍(wei)：350nm to1100nm反射(she)式/透射(she)式可選
- 水晶式膜厚(hou)計 XTC/3+6點式(shi)水晶傳感器(qi)
- 蒸(zheng)發源 電子槍(qiang)2套
- 離子源 10cm RF 離(li)子(zi)源
- 排(pai)氣系統 機械(xie)泵(beng)(beng)+1個擴(kuo)散(san)泵(beng)(beng)+Polycold（或(huo)1個冷凝(ning)泵(beng)(beng)）
- 性能
- 達到壓力 7.0 × 10-5 Pa 以下
- 排氣時間 15 分 (大(da)氣壓 1.3×10-3 Pa)
- 基板溫度(du) 最高(gao)：350℃
- 工作條件
- 設備尺寸 4500mm (W)×5500mm (D)×3200mm (H) approx.
- 電源 3相,200v,50/60Hz, 約80KVA
- 水(shui)流(liu)量 80升/分以上
- 空(kong)氣壓力 0.5MPa 以上
- 重量(liang) 約5400kg
