公司新聞
OIS-Four型RF離子源 2007-09-20
OIS-Four是本公司自行研制(zhi)開發(fa)的(de)最適合IAD蒸鍍的(de)小型高性能的(de)射頻(RF)離子源。
的小口(kou)徑柵網，優良的離子電流密度(du)均(jun)勻性設(she)計，使(shi)其(qi)成為本公司OTFC-600型及OTFC-900型光學鍍(du)膜(mo)機所最適(shi)配的離子源(yuan)。
OIS-Four型RF離(li)子源適用于(yu)各種光學(xue)濾光片的試(shi)制(zhi)與生產,及(ji)其他領(ling)域(yu)的研究(jiu)開發等用途,也可(ke)以用于(yu)高效率真空鍍膜過程中基(ji)板的離(li)子洗凈。
該產品也可適用(yong)于客戶(hu)現(xian)有鍍膜(mo)機(ji)的(de)離子源追加改裝(zhuang)。
